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實(shí)驗室用高壓反應釜

描述：爆破片改為比例卸荷閥，采用直角高壓針閥，閥門(mén)開(kāi)口垂直于釜蓋，液體取樣殘留少，標配比例卸荷閥，壓力泄放可以重復使用，泄放壓力可調，冷卻塔設計，保證關(guān)鍵部件在高溫使用情況下無(wú)超溫之憂(yōu)，保證配件使用壽命。上海巖征儀器，專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)各種實(shí)驗室設備、實(shí)驗室用高壓反應釜、全自動(dòng)反應釜等，歡迎前來(lái)咨詢(xún)。

  • 廠(chǎng)商性質(zhì)

    生產(chǎn)廠(chǎng)家

  • 更新時(shí)間

    2023-11-02

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詳細介紹
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巖征儀器 實(shí)驗室用高壓反應釜是由：特制光源，不銹鋼釜體以及控制系統組成。用于新能源，環(huán)境、新藥研發(fā)領(lǐng)域的高溫高壓光化學(xué)催化、合成、降解的中試及放大生產(chǎn)。

巖征儀器 實(shí)驗室用高壓反應釜技術(shù)特點(diǎn)：

1、光源可按照客戶(hù)要求選擇，采用LCD10.1英吋液晶觸摸控制器，光源光電參數及光化學(xué)反應的溫度，攪拌等參數實(shí)時(shí)數字顯示在屏幕上。

2、光源與釜體連接部分采用技術(shù)保證耐壓氣密性，國內*。

3、更專(zhuān)業(yè)的光化學(xué)釜體生產(chǎn)工藝：釜體包含壓力表、防爆裝置、進(jìn)氣閥門(mén)、取樣閥門(mén)，溫度測溫探桿，耐壓光源插入口等，在保證您的生產(chǎn)安全前提下更方便您的操作。

4、采用浸入式光源設計，物料與光源充分接觸，光化學(xué)反應釜配備大功率攪拌電機帶動(dòng)錨式攪拌槳，讓物料能均勻吸收光子能量。

巖征儀器 光化學(xué)配置表：

型號YZ-GHX-HP系列
光源類(lèi)型低壓汞燈,高壓汞燈,氙氣燈,鈉燈,led燈,準分子燈
光源冷卻形式強制水冷，采用強制導流夾套式光源冷阱
容積5-500L
設計參數設計壓力1mpa,設計溫度：250℃
攪拌設計采用磁力耦合機械式攪拌，零泄漏，攪拌轉速：0-750轉/分
控制系統一體式控制機柜，上部控制光源，下部分控制反應釜溫度，攪拌
光源冷卻設備大功率激光冷水機，給光源及冷凝回流提供降溫保證
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